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2009年2月21日 立方氮化硼（*+,）作为一种在自然界中并不存在的人造材料具有优异的理化特性- 在超硬刀具、高温电子器 件和光学保护膜等领域有着广泛的应用前景，已经成为材料科学的 2006年8月2日 长的立方氮化硼薄膜用高分辨电子显微镜进行直接观察，发现最优化条件下生长的立方氮化硼薄膜表面是纯立方 相｛###｝晶面结构，不存在01 % 杂化氮化硼表面薄层/研究结 等离子体增强化学气相沉积法制备立方氮化硼薄膜 过程中的 ...
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2013年5月10日 一种在石墨材料上进行热分解氮化硼涂布的方法，其特征在于 ：将石墨材料的表面 用 CVI 处理致密化，进一步用反应性气体进行表面处理后，在该处理面上，进行在石墨材 2014年10月25日 降低立方氮化硼薄膜内应力的方法主要包括：高温沉积法，两步处理法，添加第三种元素，如少量的O，H，Si，以及添加梯度过渡层等。. 添加的梯度过渡层包括：h-BN 缓冲层，BNx层，以及三元B-C-N 层等。. 其中选 立方氮化硼薄膜的制备及研究 - 真空技术网
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本论文利用射频磁控溅射沉积方法,在c-轴取向石墨片衬底上,在没有衬底加热和负偏压的条件下制备出高质量的cBN厚膜.研究了各种实验参数对样品制备的影响,包括:射频功率,沉积时间和衬底负 2023年6月26日 等离子体增强化学气相沉积法（PECVD）：将氮和硼的原料气体在高频等离子体的作用下，通过水解和热化学反应产生的反应物，在基片表面上沉积氮化硼薄膜。沉积氮化硼的工艺 - 知乎
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2016年9月1日 等离子喷涂沉积物的死后 X 射线衍射和 TEM 分析揭示了 BN 晶相的形成，高分辨率 TEM 观察表明，在等离子喷涂过程中添加适当的催化剂可以诱导 c-BN。 这些观察结果指 2014年3月12日 目前, 主要有以下几种方法可以打开石墨烯的带隙. 当石墨烯的尺寸减小至10 nm及以下的纳米带后, 电子在其横向上的运动受限, 这一量子限域效应将打开石墨烯的带隙. 该 石墨烯表面化学修饰及其功能调控
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2007年9月6日 高分辨电子显微镜成功地发现了立方氮化硼薄膜在硅衬底上直接成核与生长(本结果对立方氮化硼薄膜在大功率 高温电子器件等方面的应用有重要意义( 关键词：立方氮化硼薄 2022年4月28日 2020年6月10日用硼砂-尿素电弧等离子体合成氮化硼的主要工艺过程如下：硼砂脱水后与尿素以1:1.4~1.6的质量比均匀混合，压成坯块，装在石墨盘床上，置于反应炉的高温 如何用等离子喷镀氮化硼厚膜在石墨坩埚上
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2022年6月14日 OLED蒸镀用坩埚 的材质选择 常用的支撑物有：W、Mo、Ta，耐高温的金属氧化物、陶瓷或石墨坩埚等，不过也要注意支撑材料与蒸发物之间可能会发生反应。目前OLED蒸镀材料主要以有机物和金属为主，可使用以 2014年10月25日 而在立方氮化硼薄膜的制备过程中积累的较大的内应力，使得立方氮化硼厚膜的制备难以实现。在 各种立方氮化硼薄膜的制备技术中，大都需要具有一定能量的荷能离子轰击，从而满足立方氮化硼形核和生长的条件。这种 立方氮化硼薄膜的制备及研究 - 真空技术网
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氮化硼坩埚是一种用于材料科学、化学和冶金等高温和高纯度应用的容器或器皿。 它由氮化硼（BN）制成，氮化硼是一种由硼和氮原子组成的化合物。 1.优异的导热性：具有高导热性，这意味着它可以有效地将热量从所容纳的材料中传递出 2022年4月15日 OLED蒸镀用坩埚 的材质选择 常用的支撑物有： W、Mo、Ta，耐高温的金属氧化物、陶瓷或 ... 石墨坩埚 但由于石墨坩埚在 使用时基本都处于高温条件下，而且周围存在很多空气，因为很容易被氧化。而且在冶炼铸造、熔融工艺中，石墨坩埚会被严重 ...OLED蒸镀用坩埚的性能对比：钽、石墨、氮化硼 ...
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2021年12月28日 坩埚因其底部很小,一般需要架在泥三角上才能以火直接加热.坩埚在铁三角架上用正放或斜放皆可,视实验的 需求可以自行安置 ... 1、石墨坩埚 在石墨坩埚中,又有普型石墨坩埚与异型石墨坩埚及高纯石墨坩埚三种.各种类型的石墨坩埚,由于性能 ...2015年1月1日 想要实现石墨烯玻璃的产业化应用，首先需要解决的便是高品质石墨烯玻璃的大规模制备问题。迄今为止，制备石墨烯玻璃的方法主要有两种：其一是利用液相剥离石墨烯或还原氧化石墨烯作为原料，通过液相涂膜的方法在玻璃表面涂覆一层石墨烯薄膜 25, 26；其二是以化学气相沉积(CVD)法在金属基底 ...石墨烯玻璃：玻璃表面上石墨烯的直接生长 - 物理化学学报
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2022年12月10日 .本发明涉及工业生产技术领域，具体地，涉及一种电子束蒸镀铝膜用坩埚及其使用方法。背景技术.使用电子束蒸发设备蒸镀铝膜，是薄膜工艺工程师面临的一大难题。主要原因是铝几乎可以和所有的金属形成合金。通常用来盛载待蒸镀材料的钨、钼、钽等材质的坩埚，因为存在与铝形成合金的问题 ...高纯石墨坩埚在冶金、铸造和实验室等行业有着广泛的应用。它们通常用于熔化和铸造有色金属，包括铝、铜和贵金属。高纯度石墨坩埚还可用于生产合金和高温陶瓷。在实验室的化学分析、光谱分析和样品制备等过程中，石墨坩埚也是必不可少的。电子束蒸发涂层导电氮化硼坩埚（Bn 坩埚） - Kintek Solution
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由于其卓越的特性和多功能性，氮化硼陶瓷坩埚在实验室环境中得到了显著的认可。 热稳定性和高温应用： 氮化硼陶瓷坩埚的显著优点之一是其卓越的热稳定性。这些坩埚可以在极高温度下承受，而不会发生结构或性能上的显著变化。这一特性使其非常适用于涉及高温的应用，例如样品制备 高纯石墨坩埚在冶金、铸造和实验室等行业有着广泛的应用。它们通常用于熔化和铸造有色金属，包括铝、铜和贵金属。高纯度石墨坩埚还可用于生产合金和高温陶瓷。在实验室的化学分析、光谱分析和样品制备等过程中，石墨坩埚也是必不可少的。电子束蒸发石墨坩埚 - Kintek Solution
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2022年3月10日 第一作者：姜美慧 通讯作者：范壮军 1、盛利志 2 通讯单位：1.中国石油大学(华东)材料科学与工程学院；2. 北华大学木质材料科学与工程吉林省重点实验室 主要亮点 本文主要综述了从石墨烯基元调控到二维宏观薄膜 2023年3月21日 摘要 ： 电气、电子装备中器件的微型化、高功率化发展使得散热成为关键，以氮化硼（BN）为填料制备的导热复合材料是改善这一问题的有效方式。 本文 在阐述 BN 结构特点的基础上，从单一填料处理包括 BN 的剥离 “白色石墨”导热！氮化硼改性聚合物基高导热复合材
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2015年5月28日 作为化学仪器的重要组成部分，坩埚是熔化和精炼金属液体以及固液加热、反应的容器，是保证化学反应顺利进行的基础。历史上，坩埚最开始是用黏土制成的，而铂的最早用途之一也是用于制备坩埚。但随着制备技术的发展，坩埚如今已经可以由任意能够熔化或改变其内容物的材料组成。本公司电子束蒸镀用坩埚分为PBN基底PG涂层的和石墨基底PG涂层两类。一、产品特征： 1.纯度高达99.999％以上、气密性好；2.耐高温、化学性质稳定；3.抗热震性好、热导性好、热膨胀系数低；4.耐酸、碱、盐及有机试剂腐蚀；5.使用寿命长；二、产品用途: 有机EL镀膜装置用的蒸发坩埚电子束蒸镀用坩埚_热解石墨(PG)_产品中心_国晶新材 ...
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2023年8月31日 氮化硼六方晶系结晶，最常见为石墨晶格，也有无定形变体，除了六方晶型以外，氮化硼还有其他晶型，包括：菱方氮化硼（r-BN）、立方氮化硼（c-BN）、纤锌矿型氮化硼（w-BN）。人们甚至还发现像石墨稀一样的二维氮化硼晶体。 [4]2009年2月21日 法，成功地制备了厚度达到./!7的$% 厚膜，在他 们的实验中，较高的衬底温度、较低的轰击离子能量 和@ 元素对FH. 杂化% 的选择性刻蚀是制备厚膜 的关键[.3], 利用类似的原理，IJC6K 等[’/]在012 法 生长的+4)!7厚的金刚石薄膜衬底上生长了.!7 厚的前沿领域综述 立方氮化硼薄膜的最新研究进展
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PBN MBE 坩埚是指由热解氮化硼 (PBN) 制成的用于分子束外延 (MBE) 工艺的专用坩埚。 MBE 是一种薄膜沉积技术，用于半导体制造和研究，通过精确控制原子层来生长高质量晶体薄膜。 PBN 坩埚在此过程中发挥着关键作用，它可以容纳并蒸发固体源材料以沉积到基材上。 MBE 是一种复杂的薄膜沉积技术 ...2022年10月11日 摘要： 本发明提供了一种电子束蒸镀铝膜用坩埚及其使用方法,包括坩埚本体,坩埚本体为上端半径较大的锥形圆筒结构;坩埚本体上设置有多条第一缝隙与多条第二缝隙,第一缝隙与第二缝隙均沿径向镂空;第一缝隙从第一开口端沿纵向延伸并形成第一封闭端,第一开口端设置在坩埚本体的上沿;第二缝隙 ...电子束蒸镀铝膜用坩埚及其使用方法 - 百度学术
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2021年4月23日 1、抗菌功能 石墨烯对细胞有较强的细胞毒性，其可以直接接触细菌的细胞膜并使其分解，氧化石墨烯的抗菌机理是细胞膜和氧化应激共同作用。Krishnamoorthy等利用氧化石墨烯纳米结构涂覆在棉织物表面进行整理，并对其进行检测，结果表明，改性后的织物具有更高的热稳定性，而且对革兰氏阳性菌 ...电子束蒸发源定义：将镀料放入水冷铜坩埚中，利用高 能电子束轰击镀料，使其受热蒸发。 电阻加热蒸发源已不能满足蒸镀某些高 不浸润－点蒸发源 如果是难以浸润时，在采用丝状蒸发源时，镀料容易从蒸发 源上掉下来。如银在钨丝上熔化后就会脱落。5 第四章 真空蒸发镀膜法 - 百度文库
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2022年4月15日 热解氮化硼（PBN）是一种六方晶系的先进陶瓷材料，呈象牙白色，无毒，纯度可以达到99.999%，耐酸碱，抗氧化，导热性好，表面致密好，耐高温，无孔隙、易加工。它是在高温、高真空条件下，采用含硼气体（BCl3 2024年1月2日 制法 合成氮化硼常见方法有硼酐法、卤化硼法、硼酸法、硼砂法、电弧等离子体法等。其中硼酐法是工业生产氮化硼的主要方法。通常制得的氮化硼是石墨型的六方氮化硼，石墨型氮化硼在高温(1800℃)、高压(800MPa)下可转变为金刚型立方氮化硼。氮化硼_化工百科 - ChemBK
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2015年7月15日 把它们加工成各种合适的形状，在其上盛装待蒸发的膜 材。 一般采用大电流通过蒸发源使之发热，对膜材直接加热蒸发 ... 氮化硼导电陶瓷与石墨等材料的特性比较见表2 耐熔坩埚材料特性的比较。用氮化硼导电陶瓷制成 成膜的方法很多，各种固体润滑剂可通过溅射、电泳沉积、等离子喷镀、离子镀、电镀、粘结剂粘结、化学生成、挤压、浸渍、滚涂等方法来成膜。 （3）制成复合或组合材料使用所谓复合（组合）材料，是指由两种或两种以上的材料组合或复合起来使用的材料系统。固体润滑材料 - 百度百科
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5 天之前 原子层沉积 (Atomic Layer Deposition, ALD)是一种基于化学气相沉积 (CVD) 的高精度 薄膜沉积 技术，是将物质材料以单原子膜的形式基于化学气相一层一层的沉积在衬底表面的技术。将两种或更多种前体化学品分别包含被沉积材料的不同元素，一次一种地分别引入 ...2021年9月29日 该过程可规模化进行，可在平行堆叠的多个金属箔衬底上同时生长相同质量的石墨烯。在将石墨烯薄膜从金属箔衬底上电化学转移之后，金属箔衬底本身基本上可以无限期地重复使用。相关论文发表于Nature 杂志。单层石墨烯薄膜。图片来源：IBS [2]Nature：控温，就可生长大面积高质量单层石墨烯 - X-MOL ...
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2022年8月18日 热解石墨坩埚和热解氮化硼坩埚都是通过该技术的热分解反应制备而成，因此这两种坩埚都有一些共性的性能特点，例如耐高温、耐磨、纯度高等。显而易见，它们最大的区别就是使用的材料不同，因此它们的制品性能也各有不同，以至于两种坩埚使用的领域也不同。2020年4月23日 石墨坩埚加热后不应立即放置在冷金属台面上，以免因快速冷却而断裂。坩埚最适合于熔炼多品种、少合金的合金。要改变合金的类型，只需更换石墨坩埚即可。 其他熔炼方法，如反射镜和非坩埚感应电炉，适用于大量的"于单"熔炼。如果改变了 ...石墨坩埚详解在这里 - 知乎
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2023年12月29日 氮化硼（BN）坩埚 氮化硼（BN）坩埚是一种合成技术陶瓷材料。它具有出色的热特性：高导热性 （751 W/mK） 和出色的抗热震性。BN坩埚的独特性能是它不会被熔融金属润湿。广泛用于晶体生长、熔融金属、稀土材料、氟化物、玻璃、硅、熔盐和发光材料本发明属于超硬材料及其制备的。特别涉及磁控溅射手段制备立方氮化硼(C-BN)厚膜的。在传统的氮气、氩气混合工作气体中引入适量氢气，通过控制不同氢气气体流量比、衬底温度和衬底负偏压，在没有金属、合金化合物、碳化硼和金刚石等过渡层的情况下，直接在硅衬底上获得立方相含量超过75%的 ...一种磁控溅射制备立方氮化硼厚膜的方法 - X技术网
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